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利用低温等离子复合技术在坡莫合金等软磁材料表面沉积Ａｌ２Ｏ３膜，对其性能进行测试，并研究了在磁头芯片表面形成优良的绝缘膜的应用情况。
低温等离子复合技术淀积Al_2O_3膜的性能及应用
【摘 要】
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利用低温等离子复合技术在坡莫合金等软磁材料表面沉积Ａｌ２Ｏ３膜，对其性能进行测试，并研究了在磁头芯片表面形成优良的绝缘膜的应用情况。
【机 构】
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四川大学原子核科学技术研究所
【出 处】
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材料工程
【发表日期】
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1999年10期
【基金项目】
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国家自然科学基金!19735004,四川省科学基金!924097
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