【摘 要】
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目的优化电弧离子镀沉积TiN涂层的制备工艺,分析不同N2/Ar条件对涂层微观结构和力学性能的影响机制,进一步强化和研究TiN涂层的优异性能。方法采用带有附加线圈磁场的电弧离
【机 构】
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天津职业技术师范大学天津市高速切削与精密加工重点实验室
【基金项目】
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天津职业技术师范大学校级科研项目(KJ1812);天津职业技术师范大学“创想梦工场”众创空间创新创业项目(10123001);天津市高等学校创新团队培养计划项目(TD13–5096)
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目的优化电弧离子镀沉积TiN涂层的制备工艺,分析不同N2/Ar条件对涂层微观结构和力学性能的影响机制,进一步强化和研究TiN涂层的优异性能。方法采用带有附加线圈磁场的电弧离子镀技术在不同N2/Ar条件下制备TiN涂层,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、超景深显微镜、维氏硬度计、薄膜应力仪和高温摩擦机观察涂层微观结构、测试力学性能。结果随着N2/Ar流量比的增加,涂层表面形貌得到改善,大颗粒的数量和尺寸明显减少,表面变得光滑致密。TiN涂层的生长取向由沿(110)晶面择优生长,逐渐转变为沿(111)晶面择优
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