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来源 :集成电路应用 | 被引量 : [!--cite_num--]次 | 上传用户:[!--user--]
【摘 要】
:
采用一种沟道内置沟道的套刻标记和自动工艺控制策略,双沟道图形化相关的CD均匀性问题可保持在具有量产价值的范围内。
【作 者】
:
Ilan Englard Rich Piech Liraz
【机 构】
:
AppliedMaterialsInc
【出 处】
:
集成电路应用
【发表日期】
:
2008年4期
【关键词】
:
双沟道
CDU
图形化
套刻
控制策略
均匀性
内置
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