CuCl2-NaCl溶液中铜氯络合物浓度的线性扫描伏安法分析

• 作 者: 张艳清 李和平 刘庆友 徐丽萍 张磊
• 机 构: 中国科学院地球化学研究所地球深部物质与流体作用地球化学研究室,中国科学院研究生院,安徽省地质测绘技术院
• 出 处: 冶金分析
• 发表日期: 2011年5期
• 关键词: CuCl2-NaCl溶液 线性扫描伏安法 铜氯络合物 浓度 CuCl2-NaCl solution linear sweep voltammetry cop
• 基金项目: 中国科学院大型设备研制项目（YZ200720）, 国家自然科学基金项目（40573046）资助

在常压和室温下,对添加与不添加NaCl的CuCl2溶液进行了线性扫描伏安法研究,得到了在0～-0.8 V（相对开路电势）电势区间的伏安曲线。对比两种溶液在扫描速率为5mV/s时的曲线,发现添加NaCl后Cu2＋与Cl-形成了参与电化学反应的络合物[CuCl3]-,且伏安曲线发生了以下变化：第1个峰的峰电位变正,第2个峰的峰电流大大降低,两个峰的峰电位差变大。以不同的扫描速率进行电势扫描,体系所表现的可逆性也不一样。扫描速率大于10 mV/s时体系不可逆,扫描速率在1～10 mV/s的范围时第一步电极反应的