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Si1—xGex/Si量子阱发光材料的分子束外延生长及其结构研究
Si1—xGex/Si量子阱发光材料的分子束外延生长及其结构研究
来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tanjich
【摘 要】
:
采用固源Si分子束外延,在较高的生长温度于Si<100>衬底上制备出Si1-xGex/Si量子阱发光材料,发光样品和特性通过瑟福背散射、X射线双晶衍射及光致发光评估。
【作 者】
:
杨宇
黄醒良
刘晓晗
黄大鸣
蒋最敏
龚大卫
张翔九
赵国庆
【机 构】
:
复旦大学应用表面物理国家重点实验室,中国科学院红外物理国家实验室,复旦大学物理二系
【出 处】
:
发光学报
【发表日期】
:
1995年4期
【关键词】
:
分子束外延
量子阱
硅
发光材料
反常沟道效应
i-MBE
SiGe/Si quantum wells
strutures
luminescence
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采用固源Si分子束外延,在较高的生长温度于Si<100>衬底上制备出Si1-xGex/Si量子阱发光材料,发光样品和特性通过瑟福背散射、X射线双晶衍射及光致发光评估。
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