拉曼散射和X射线衍射研究In_xGa_（1-x）As材料

来源 :海南师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：hljxkbsyly

【摘要】

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使用低压金属有机化学气相淀积（LP-MOCVD）技术,在InP（100）衬底上生长InxGa1-xAs材料.拉曼散射研究材料的结构无序和计算材料的应力,X射线衍射研究InxGa1-xAs的组分、结晶质量、位

【作者】

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张铁民缪国庆傅军符运良王林茂洪丽

【机构】

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海南师范大学物理与电子工程学院,中国科学院激发态物理重点实验室

【出处】

：

海南师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2010年4期

【关键词】

：

INXGA1-XAS 拉曼散射 X射线衍射 InxGa1-xAs Raman scattering X-ray diffraction

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使用低压金属有机化学气相淀积（LP-MOCVD）技术,在InP（100）衬底上生长InxGa1-xAs材料.拉曼散射研究材料的结构无序和计算材料的应力,X射线衍射研究InxGa1-xAs的组分、结晶质量、位错密度.拉曼散射可以获得材料表面特性,X射线衍射可以获得材料整体结构信息,即衬底质量,缓冲层的特性,外延层特性.

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