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在锗窗口上沉积类金刚石（DLC）薄膜的过程中，发现镀膜后锗窗口的面形一般都会产生显著变化，这为此类元件的面形控制带来不确定性，因此有必要对其面形变化的原因进行分析和研究，并呆取相应措施减小其变形；或找到其变化规律，指导此类元件的加工。对不同电阻率的锗窗口进行DLC膜制备，并优化DLC膜的镀制工艺，结果发现电阻率和锗窗口变形没有明显的对应关系；优化后的DLC膜镀制工艺对锗窗变形的影响也不大。