【摘 要】
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目的:为了满足面板新型显示亚微米级检测要求,导入了线上电子显微镜系统。对该系统在面板显示中的检测能力进行研究。方法:由AOI等检测设备提供缺陷或异常的坐标,或者选择感兴趣的坐标点位(如工艺监控点),线上电子显微镜系统根据坐标将待测样品移动到SEM视野里,然后测试获得SEM图、EDX光谱、EDX元素匹配。通过系统自带算法计算得到晶粒尺寸,通过系统自带工具,测得关键尺寸。结果:实验结果表明:线上电子显微镜分辨率在纳米级别;系统的关键尺寸量测偏差在1%以内;晶粒尺寸计算结果能够反映ELA工艺变化。结论:该系统基
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目的:为了满足面板新型显示亚微米级检测要求,导入了线上电子显微镜系统。对该系统在面板显示中的检测能力进行研究。方法:由AOI等检测设备提供缺陷或异常的坐标,或者选择感兴趣的坐标点位(如工艺监控点),线上电子显微镜系统根据坐标将待测样品移动到SEM视野里,然后测试获得SEM图、EDX光谱、EDX元素匹配。通过系统自带算法计算得到晶粒尺寸,通过系统自带工具,测得关键尺寸。结果:实验结果表明:线上电子显微镜分辨率在纳米级别;系统的关键尺寸量测偏差在1%以内;晶粒尺寸计算结果能够反映ELA工艺变化。结论:该系统基
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