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以Zn（Ac）2·2H2O和Tb4O7为原料，采用溶胶一凝胶、浸渍一提拉技术在单晶硅（100）衬底上制备了铽掺杂的氧化锌（ZnO：Tb）薄膜。分别在氮气和氢气气氛下对薄膜进行退火处理，并进行了XRD、IR、EDS和AFM表征，同时结合荧光光谱测试详细研究了退火气氛对薄膜发光性质的影响。结果表明，经氮气和氢气气氛处理的薄膜中，ZnO：Tb粒子均具有六方纤锌矿结构，且排列致密均匀，相应的ZnO：Tb粒径分别为59和45nm。经氮气气氛处理的ZnO薄膜，掺杂前后的发光情况变化显著，由485nm的蓝光发