介电泳效应磨粒流抛光中的电极形态

• 作 者: 邓乾发 郑涛 袁巨龙 王旭 张学良 吕冰海
• 机 构: 浙江工业大学超精密加工研究中心,杭州科技职业技术学院
• 出 处: 中国机械工程
• 发表日期: 2020年23期
• 关键词: 磨粒 介电泳效应 抛光 陶瓷 内表面 abrasive particle dielectrophoresis polishing ceramics intern
• 基金项目: 国家自然科学基金资助项目(51775511,U1809221,51805485,U1604254),浙江省自然科学基金资助项目(LY17E050022,LGG19E050006),中国博士后科学基金资助项目(2019M652138)

针对薄壁陶瓷工件内表面抛光,提出一种基于介电泳效应的磨粒流抛光方法。将非均匀电场布置于陶瓷工件外表面,极化磨粒,实现陶瓷工件内表面高效抛光。仿真分析发现:电极间隙比为2时,SiC磨粒具有最好的介电泳效应,参与抛光的磨粒最多。陶瓷工件初始内表面粗糙度值Ra为(208±5)nm时,抛光10 h后,无介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为51 nm,有介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为23 nm。