衬底温度对PLD制备的Mo薄膜结构及表面形貌的影响

• 作 者: 雷洁红 邢丕峰 唐永建 吴卫东
• 机 构: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
• 出 处: 强激光与粒子束
• 发表日期: 2009年3期
• 关键词: 脉冲激光沉积 Mo薄膜 表面粗糙度 结晶度
• 基金项目: 国家高技术发展计划项目

运用脉冲激光沉积（PLD）技术在Si（100）基片上沉积了金属Mo薄膜。在激光重复频率2Hz，能量密度5．2J／cm^2，本底真空10^-4Pa的条件下，研究Mo薄膜的结构和表面形貌，讨论了衬底温度对薄膜形貌与结构的影响。原子力显微镜（AFM）图像和X射线小角衍射（XRD）分析表明，薄膜表面平整、光滑，均方根粗糙度小于2nm。沉积温度对Mo薄膜结构和表面形貌影响较大，在373～573K范围内随着温度升高，薄膜粗糙度变小，结晶程度变好。