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低温面源黑体作为红外谱段的标准辐射源，广泛应用于红外遥感器、热像仪的标定中。随着红外技术的发展，其应用越来越广泛并已经开始向低温领域发展。温度均匀性是面源黑体的重要指标，介绍一种可以提高面源黑体温度均匀性的结构，实验结果表明这种结构可使面源黑体温度均匀性优于0．2K。
低温面源黑体均温结构研究
【摘 要】
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低温面源黑体作为红外谱段的标准辐射源，广泛应用于红外遥感器、热像仪的标定中。随着红外技术的发展，其应用越来越广泛并已经开始向低温领域发展。温度均匀性是面源黑体的重要
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所空间功热转换重点实验室,中国科学院研究生院
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2012年4期
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