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SiO2平面光波导的PECVD制备和膜层特性研究
SiO2平面光波导的PECVD制备和膜层特性研究
来源 :光通信研究 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wang____jiang
【摘 要】
:
研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550nm
【作 者】
:
陈思乡
江征风
胡业发
刘文
【机 构】
:
武汉理工大学,武汉邮电科学研究院
【出 处】
:
光通信研究
【发表日期】
:
2005年5期
【关键词】
:
平面光波导
SiO2波导
等离子体增强化学汽相沉积
planar optical waveguide silica waveguides PECVD
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研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响,优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1 550nm中心波长损耗低于0.1db/cm的平面光波导和阵列波导光栅(AWG)器件.
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