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在印制线路板上化学镀镍钯磷合金,研究了主盐、配位剂和工艺参数对沉积速率及镀层中钯含量的影响,获得了较优镀液配方和工艺条件:NiCh·6H2024g/L,PdChO.1g/L,NaH2P02·H2O 0.15mol/L,三羟甲基氨基甲烷(Tris)0.05mol/L,乙二胺20mL/L,温度65~70℃,pH8.5~9.0,时间20min。采用扫描电子显微镜和能谱仪对镀层的形貌和组成进行了表征,通过结合力测试、中性盐雾试验和可焊性试验测试了镀层性能。所得镍钯磷合金镀层光亮、孔隙率低,具有