【摘 要】
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作为电离物理气相沉积法（I-PVD）家族的新成员,高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS/HiPIMS）由于其较高的电子密度及金属离化率,自发现以来即受到了国内外专家的广泛关注。从高功率脉冲
【机 构】
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西南交通大学材料科学与工程学院材料先进技术教育部重点实验室,中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
【基金项目】
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国家自然科学基金（31570958）, 四川省科技支撑计划（2016SZ0007）
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作为电离物理气相沉积法（I-PVD）家族的新成员,高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS/HiPIMS）由于其较高的电子密度及金属离化率,自发现以来即受到了国内外专家的广泛关注。从高功率脉冲磁控溅射过程中金属离化率的角度出发,对高功率脉冲磁控溅射技术的离化机制、离化率定义进行了概述。在此基础上,重点综述了近些年来常用的离化率测量方法,包括等离子体发射光谱法、原子吸收光谱法、质谱仪法、多栅式石英微天平法、正电压沉积法等,并比较了各方法之间的优劣。进一步归纳了影响离化率的关键因素,如靶材功率、脉宽、频率、占空比、
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