离子刻蚀的概况

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离子刻蚀是利用众所周知的阴极溅射效应对表面进行选择性的剥离加工。由于轰击粒子小和离子刻蚀过程的计量极为精确,因此,用这种方法加工表面,使表面溶解深度在单原子层范围内。离子刻蚀可用来清洗,抛光或进行薄刻蚀,还可配合表面分析法测量密集图形。尤其在微电子技术方面,要 Ion etching is the use of the well-known sputtering effect on the surface of the selective stripping process. Due to the extremely accurate measurement of small bombardment particles and ion etching processes, the surface is machined in this way to provide surface dissolution depths in the monolayer range. Ion etching can be used to clean, polish, or thin etched surfaces, and can be used with surface analysis to measure dense patterns. Especially in microelectronics, want
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