【摘 要】
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利用磁控溅射法在玻璃基片上进行了太阳能电池预镀层Mo薄膜的制备，研究了氩气分压、溅射功率、溅射时间等工艺条件对Mo膜性能及厚度的影响，并对Mo膜的物理性能及电学性能进行了
【机 构】
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辽宁科技大学工程训练中心,鞍钢技术中心,东北大学
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利用磁控溅射法在玻璃基片上进行了太阳能电池预镀层Mo薄膜的制备，研究了氩气分压、溅射功率、溅射时间等工艺条件对Mo膜性能及厚度的影响，并对Mo膜的物理性能及电学性能进行了研究。结果表明，Mo薄膜的厚度与溅射时间近似的成正比关系，Mo膜的电阻率先降低，并在膜厚为0.3μm处达到最低，而后电阻率逐渐增加。
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