【摘 要】
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日本小松公司新近研制成一种与0.15μm的半导体曝光相匹配的ArF(氟化氩)系准分子激光器(波长193nm)。重复频率1kHz、输出5W,实现了超过20亿脉冲的耐久性。采用氟化钙材料作
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日本小松公司新近研制成一种与0.15μm的半导体曝光相匹配的ArF(氟化氩)系准分子激光器(波长193nm)。重复频率1kHz、输出5W,实现了超过20亿脉冲的耐久性。采用氟化钙材料作光学部件,提高了抗激光特性。此外,采用使用
Komatsu of Japan has recently developed an ArF (argon fluoride) based excimer laser (wavelength 193 nm) that matches the 0.15 μm semiconductor exposure. The repetition rate of 1kHz, the output of 5W, to achieve the durability of more than 2 billion pulses. Using calcium fluoride as an optical component improves the anti-laser properties. In addition, use
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