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原子层沉积(ALD)是一种独特的薄膜沉积方法,能够实现完美的台阶复形和大面积均匀沉积,为薄膜成分和厚度提供原子级控制.本文将ALD的优点与纳米光子学联系起来,总结了ALD膜层在几种硅波导新结构中的性能优化作用,综述了近年来利用ALD制备纳米光子波导器件的一些研究成果.
原子层沉积技术在纳米光子波导中的应用
【摘 要】
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原子层沉积(ALD)是一种独特的薄膜沉积方法,能够实现完美的台阶复形和大面积均匀沉积,为薄膜成分和厚度提供原子级控制.本文将ALD的优点与纳米光子学联系起来,总结了ALD膜层
【机 构】
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中国科学院上海光学精密机械研究所 上海 201800
【出 处】
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真空科学与技术学报
【发表日期】
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2017年12期
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