论文部分内容阅读
一种用于大栅宽器件的移相掩膜应用技术是将移相器边缘线用作不透明掩膜，以代替铬图形。利用此移相掩膜技术，制作了特殊线长为０．１５μｍ的微细栅条和大栅宽器件。
移相腌模应用技术
【摘 要】
：
一种用于大栅宽器件的移相掩膜应用技术是将移相器边缘线用作不透明掩膜，以代替铬图形。利用此移相掩膜技术，制作了特殊线长为０．１５μｍ的微细栅条和大栅宽器件。
【机 构】
：
信息产业部电子第十三研究所
【出 处】
：
半导体技术
【发表日期】
：
1999年2期
其他文献
研究了基于测试线圈的非直接位置传感器开关磁阻电机（ＳＲＤ），利用８０９８单片机进行运行控制，并进行了原理验证。
设计了一种新型多通道无线电遥控系统，在单片机监控下，实现对电气设备的可编程遥控管理。无干扰，有效解决了无线电遥控中的串门现象，扩展ＲＳ４８５接口便于计算机管理；有效遥控距离１００ｍ，可广泛应
描术了ＣＺ硅单晶中原生缺陷的分类，形成机理及它们对相关器件性能的影响，并就其控制和消除的方法进行了讨论。
介绍了一种全部采用国产管芯，基片，材料研制的硅Ｓ波段功率模块，该模块具有带宽性能好，增益高，输出功率大，可靠性高，静态电流低，体积小，重量轻，输入输出为５０Ω及采用全芯片组装等特点。
硅片直接键合技术的关键在于硅片表面的亲水处理，本文分析了亲水处理之微观机理，从界（表）面物理化学角度讨论了接触角对硅片表面亲水性的表征及其准确测量方法，并测量了常用清洗液
高速公路是国家现代化、文明化的标志。作为发展中国家的我国，在这方面进行了大规模的投入。近些年，我国各省市高速公路建设都取得了相当的成绩。就河南省来说，1994年郑州到开封
通过应用Ｓｃｈａｒｆｅｔｔｅｒ－Ｇｕｍｍｅｌ解法数值求解Ｐｏｉｓｓｏｎ方程，对热平衡μｃ－Ｓｉ：Ｈ ｐ－ｉ－ｎ薄膜太阳能电池进行计算机数值模拟。结果表明，光吸收体ｉ层或Ｐ型择杂都会在ｉ层中造成低场区而不利于光生载流子传输，指出μｃ－ＳｉＨ：ｐ－ｉ－ｎ太阳能电池制造中
无功补偿技术是电气自动化系统中必不可少的组成部分,同时也是改善供电环境的有效手段,是确保电厂能够安全生产的新型技术。文章针对目前无功补偿技术在电气自动化应用过程中
本文介绍了ＳＯＩ材料ＭＯＳ器件内部特性（杂质浓度分布、载流子浓度分布、电流密度分布及电势分布）在３００Ｋ和５３７Ｋ条件下的模拟结果，并进行了理论分析和验证。