【摘 要】
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研究了在不同的偏置电压和扫描速度下加工的Si氧化线的一致性和均匀性,得到了加工高质量的Si氧化线的实验条件为:偏置电压8V,扫描速度1 μm/s。
The uniformity and uniform
【机 构】
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天津大学计量技术及仪器国家重点实验室,天津大学计量技术及仪器国家重点实验室,天津大学计量技术及仪器国家重点实验室,天津大学计量技术及仪器国家重点实验室,天津大学计量技术及仪器国家重点实验室 天津 30
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研究了在不同的偏置电压和扫描速度下加工的Si氧化线的一致性和均匀性,得到了加工高质量的Si氧化线的实验条件为:偏置电压8V,扫描速度1 μm/s。
The uniformity and uniformity of the Si oxidation lines processed under different bias voltage and scanning speed were investigated. The experimental conditions for the fabrication of high quality Si oxidation lines were as follows: bias voltage 8V, scanning speed 1 μm / s.
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