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WO3基气敏材料研究进展
WO3基气敏材料研究进展
来源 :化学研究与应用 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gv_coolway
【摘 要】
:
综述了近年来国内外对WO3基气敏材料的研究状况,对制备工艺、防团聚技术、掺杂效应及气敏机理等进行了分析比较,并对今后的研究方向提出了一些看法.
【作 者】
:
牛新书
刘艳丽
徐甲强
【机 构】
:
河南师范大学化学与环境科学学院,郑州轻工业学院
【出 处】
:
化学研究与应用
【发表日期】
:
2001年6期
【关键词】
:
WO3
气敏材料
制备工艺
掺杂效应
气敏机理
三氧化钨
超微粉
薄膜
半导体
气敏性能
WO3
gassensing material
preparation
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综述了近年来国内外对WO3基气敏材料的研究状况,对制备工艺、防团聚技术、掺杂效应及气敏机理等进行了分析比较,并对今后的研究方向提出了一些看法.
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