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传统的光栅掩膜版制造技术是以机械刻划（浮刻）为主，如欲提高刻划精度，无外乎是在刻划设备（机床）、刻划刀具，夹具上动脑筋，基本上可以说是万变不离其“刻”，然而ＣＡＤ／激光光绘系统却以全新的面目取代了刻划。本文以制造光栅掩膜版为例，介绍了这两种有着质的区别的“刻划”方法。
光栅掩膜版的机械刻划与CAD／激光光绘系统
【摘 要】
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传统的光栅掩膜版制造技术是以机械刻划（浮刻）为主，如欲提高刻划精度，无外乎是在刻划设备（机床）、刻划刀具，夹具上动脑筋，基本上可以说是万变不离其“刻”，然而ＣＡＤ／激光光绘系统却以全新的
【机 构】
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中国船舶工业总公司第７０９研究所
【出 处】
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电子工艺技术
【发表日期】
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1994年6期
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