【摘 要】
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LPCVD是用于固体器件工艺的新技术。在工艺试验的基础上设计、研制成一台ZLPCVD-01型低压化学汽相淀积设备。本文根据减压下薄膜生长的基理叙述了对该机的要求、工作原理、结
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LPCVD是用于固体器件工艺的新技术。在工艺试验的基础上设计、研制成一台ZLPCVD-01型低压化学汽相淀积设备。本文根据减压下薄膜生长的基理叙述了对该机的要求、工作原理、结构设计、技术性能以及一些工艺与试验成果。
LPCVD is a new technology for solid state device processes. Based on the process test design, developed a ZLPCVD-01 low-pressure chemical vapor deposition equipment. This paper describes the requirements of the machine, working principle, structural design, technical performance, as well as some processes and test results according to the basic principle of film growth under reduced pressure.
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