日本制成有望大幅提高半导体性能的超微结构

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日本的一个研究小组日前宣布,他们利用分子聚集并自然排布的现象,用高分子材料制成了宽度仅10纳米的超微结构,这种新技术有望大幅提高半导体的性能。据日本媒体报道,日本京都大学和日立制作所的联合研究小组对高分子膜覆盖的基板进行特殊处理,制成了这种超微结构。如果在该结构 A research group in Japan announced recently that they utilize the phenomenon of molecular aggregation and natural arrangement to make ultra-structures with a width of only 10 nm with polymer materials, and this new technology is expected to greatly improve the performance of semiconductors. According to Japanese media reports, a joint research team at Japan’s Kyoto University and Hitachi Ltd. made a special treatment of the substrate covered by the polymer film to make such an ultra-microstructure. If in the structure
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