【摘 要】
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本文拟研究在磁控溅射中，在高气压，高溅射功率范围内，不同的溅射功率对沉积速率的影响。实验采用磁控溅射法制备锌薄膜，应用控制变量法，在其它条件相同的条件下，对T70—200W的6个不
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本文拟研究在磁控溅射中，在高气压，高溅射功率范围内，不同的溅射功率对沉积速率的影响。实验采用磁控溅射法制备锌薄膜，应用控制变量法，在其它条件相同的条件下，对T70—200W的6个不同的溅射功率，削备6个锌薄膜，然后分别测其膜厚，并算出沉积速率。本文经过分析，得出在高气压、高溅射功率范围内，随溅射功率增加沉积速率变小，并且两者呈线性关系的结论。
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