【摘 要】
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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)因其较高的把材原子离化率和优异的薄膜成形性能,逐渐成为PVD领域的热点镀膜技术。把材原子的高度离化宏观表现为较大的放电电流。介绍了等离子体
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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)因其较高的把材原子离化率和优异的薄膜成形性能,逐渐成为PVD领域的热点镀膜技术。把材原子的高度离化宏观表现为较大的放电电流。介绍了等离子体放电靶电流的构成及其形成原理,分析了HiPIMS放电过程中磁场、靶电压、工作气压对靶材原子离化率的影响,及其相应放电靶电流曲线。空间磁场可以束缚电子,增长托前电子运动轨迹,同增大工作气压一样,都可以减小粒子运动平均自由程,增大粒子碰撞几率,提高原子离化率,增大放电靶电流。升高靶电压可以提高离子碰撞能量,把电压越高,放电把电流越大。分析了
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