直流电弧等离子体喷射化学气相沉积高质量金刚石膜残余应力分布的垃曼谱分析

• 作 者: 杨胶溪 李成明 陈广超 吕反修 唐伟忠 宋建华 佟玉梅
• 机 构: 北京科技大学材料学院,北京,100083山东科技大学机械与电子工程学院,泰安,271019;北京科技大学材料学院,北京,100083
• 出 处: 人工晶体学报
• 发表日期: 2004年4期
• 关键词: 金刚石膜 残余应力 拉曼谱

不同工艺条件下在钼衬底(φ60mm)上用100 kW直流电弧等离子体喷射化学气相沉积设备进行金刚石膜的制备.金刚石膜用扫描电镜(SEM)、拉曼谱(激光激发波长为488nm)和X射线衍射来表征.研究结果表明,在直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜的过程中,内应力大小从金刚石膜的中央到边缘是增加的,并且应力形式是压应力.这说明了在金刚石膜中存在明显的应力不均.甲烷浓度和衬底温度都影响金刚石膜中的内应力.随着甲烷浓度和衬底温度的提高,金刚石膜中的内应力呈增加的趋势.