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【摘 要】
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针对红外成像制导跟踪系统工程应用的实际要求,对红外焦平面阵列工作在大动态范围条件下的非均匀性校正算法进行了深入研究,依据函数插值原理,导出了三次样条插值非均匀性校
【机 构】
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西安电子科技大学技术物理学院
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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2009年11期
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