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HN625高耐蚀化学镀镍用于计算机薄膜硬磁盘批量研制，镀层含磷量大于12％（wt),低应力且为压应力，无孔，表面粗糙度Ra<0.015μm，镀层经250℃加热1h后，振动试样磁场计测试结果，剩磁量REM＜0．1emu。具有合格的非磁性热稳定性能。
薄膜硬磁盘化学镀镍
【摘 要】
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HN625高耐蚀化学镀镍用于计算机薄膜硬磁盘批量研制，镀层含磷量大于12％（wt),低应力且为压应力，无孔，表面粗糙度Ra<0.015μm，镀层经250℃加热1h后，振动试样磁场计测试结果，剩磁量REM＜0．1
【机 构】
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机械工业部武汉材料保护研究所,国营建南机器
【出 处】
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材料保护
【发表日期】
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1995年1期
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