离子刻蚀全息光栅的研究

来源 :武汉测绘科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lukexingmm
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利用国产的光刻胶和国产离子刻蚀机在蒸镀的铝基衬底上进行刻蚀全息光栅,在国内是一项较新的技术。本文介绍和论述了该试验工作的工艺过程、参数计算和测试方法,得出了试验结果和参数计算值基本吻合的结论,并指出了进一步改善质量的方向。 The use of domestic photoresist and domestic ion etching machine in the evaporation of aluminum-based substrate etching holographic grating, is a relatively new technology in China. This paper introduces and discusses the process, parameters calculation and test methods of the test work, and draws the conclusion that the experimental results and the calculated values ​​of the parameters are basically consistent, and points out the direction of further improving the quality.
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