含氧碳源提高金刚石膜沉积速率的研究

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采用微波等离子体化学气相法合成的金刚石膜质量好,但采用常规CH4-H2反应气体体系,金刚石膜的沉积速率较慢。为此,实验研究了C2H5OH-H2、CH3COCH3-H2等含氧体系下碳源浓度、微波功率、气体压力对金刚石膜沉积速率、表面形貌、电阻率的影响。结果表明,使用C2H5OH—H2、CH3COCH3-H2等含氧体系,金刚石膜的生长速率可达0.6μm/h以上,较常规CH4-H2体系提高1倍以上,并且金刚石膜的纯度高(80%以上)、晶型好、电阻率高。引入含氧碳源是一种提高金刚石膜沉积速率的有效方法。
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