【摘 要】
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本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层、中间层和与基底连接的交界层,对彩虹色铬
【机 构】
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厦门大学化学系,厦门大学化学系,厦门大学化学系 厦门 361005,厦门 361005,厦门 361005
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本文对电沉积铬形成的彩虹色铬膜进行了XPS、UPS分析,并用电化学方法研究其形成过程,根据彩虹色铬膜的成分分布。该膜可分为表面层、中间层和与基底连接的交界层,对彩虹色铬膜的形成机理和显色原因也进行了探讨。
In this paper, XPS and UPS were analyzed for the rainbow-colored chromium films formed by electro-deposition of chromium, and the formation process of them was studied by electrochemical method. The film can be divided into the surface layer, the middle layer and the interface layer connected to the substrate, the formation mechanism of the rainbow-colored chrome film and the color of the reason are also discussed.
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