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【摘 要】
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The thin films of pure Cu and Cu-2.18%Cr(mole fraction,%) were deposited on Si(100) substrates. Then the samples were vacuum-annealed at 573-773 K to investigat
【机 构】
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KeyLaboratoryoftheMinistryofEducationforHighTemperatureMaterialsandTesting
【出 处】
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Transactions of Nonferrous Metals Society of China
【发表日期】
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2007年A02期
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