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本发明是一种超导薄膜的制备方法利用双加热器化学气相沉积一步法工艺制备大面积硼化镁超导薄膜。将基片和镁粒置于双加热器上，双加热器置于化学气相沉积室内，进行原位化学气相沉积，形成的硼化镁超导薄膜转变温度（零电阻温度）在25～39K之间，可将薄膜直接应用于高性能超高速微电子系统中。
硼化镁超导薄膜的双加热器原位化学气相沉积一步法工艺
【摘 要】
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本发明是一种超导薄膜的制备方法利用双加热器化学气相沉积一步法工艺制备大面积硼化镁超导薄膜。将基片和镁粒置于双加热器上，双加热器置于化学气相沉积室内，进行原位化学气相
【机 构】
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贵州大学
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2007年3期
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