【摘 要】
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以ChCl-urea-ZnO-Cu2O低共熔溶剂为电解质在343K镍基体上电沉积制备得到了铜锌合金镀层。伏安曲线测试表明在沉积过程中，镍基体能够诱导金属Zn发生欠电位沉积，从而实现了Cu-Zn
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（21263007）；国家重点基础研发展计划项目（2014CB643404）
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以ChCl-urea-ZnO-Cu2O低共熔溶剂为电解质在343K镍基体上电沉积制备得到了铜锌合金镀层。伏安曲线测试表明在沉积过程中，镍基体能够诱导金属Zn发生欠电位沉积，从而实现了Cu-Zn合金的共沉积。同时研究了沉积电势对镀层成分和形貌的影响，结果表明：沉积电势由.0.85V(vsAg)增加到.1.3V(vsAg)时，合金镀层中Zn原子百分数从0升高到76.29%。在沉积电势为.1.10～.1.15V范围内，Zn原子百分数为12.5%～20.81%时，镀层平整致密，颜色为金色，达到仿金镀的效果。
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