相反电荷取代的卟啉和酞菁化合物分子沉积膜

• 作 者: 毛海舫 李洪武 孙轶鹏 田宏健 周庆复 张希 沈家聪 许慧君
• 机 构: 中国科学院有机化学研究所!上海200032,中国科学院有机化学研究所!上海200032,吉林大学化学系!长春130023,中国科学院感光化学研究所!北京100101,中国科学院感光化学研究所!北京10
• 出 处: 中国科学(B辑)
• 发表日期: 1998年02期
• 关键词: 分子沉积膜 酞菁 卟啉 紫外-可见吸收光谱

利用分子沉积技术成功地制备了多种卟啉 /卟啉、酞菁 /酞菁、卟啉 /酞菁化合物的分子沉积膜 (MD膜 ) .运用紫外 可见吸收光谱跟踪了MD膜的交替沉积过程 ,说明这类MD膜具有很好的层状均匀成膜的特点 .并且用膜天平 (QCM)技术和偏振紫外 可见吸收光谱技术对膜的结构进行了表征 .结果表明 ,卟啉和酞菁大环在MD膜中具有一定的取向 ,卟啉大环与基片法线的平均取向为 38℃ ,而酞菁大环为32℃ .