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脉冲频率对电沉积Ni镀层组织和性能的影响
脉冲频率对电沉积Ni镀层组织和性能的影响
来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:heying423
【摘 要】
:
研究了脉冲频率对Ni镀层组织和性能的影响。X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FEG—SEM)测试表明,提高脉冲频率可以细化Ni镀层晶粒。实验范围内,随着脉冲频率的增加,Ni镀层抗拉强度和
【作 者】
:
王子涵
杨滨
铁军
姜涛
杨玉国
张济山
【机 构】
:
北京科技大学新金属材料国家重点实验室,中国科学院国际材料物理中心,北京中康达纳米技术有限公司,北京交通大学
【出 处】
:
稀有金属材料与工程
【发表日期】
:
2007年A03期
【关键词】
:
脉冲电沉积
频率
Ni镀层
pulsed-electrodeposition
frequency
Ni sheets
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研究了脉冲频率对Ni镀层组织和性能的影响。X射线衍射(XRD)、场发射扫描电镜(FEG—SEM)测试表明,提高脉冲频率可以细化Ni镀层晶粒。实验范围内,随着脉冲频率的增加,Ni镀层抗拉强度和硬度提高。
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