活性碳纤维表面氧化还原机理研究

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用X射线光电子能谱分析技术,研究了氧化还原反应前后ACF表面结构的变化以及反应条件与结构变化的关系。结果证明ACF的氧化还原反应机理至少包括两种反应过程,一为增加C—OH基团浓度的反应,二为增加C=O基因浓度的反应。在强烈的氧化条件下,还会发生部分基因最终被氧化成为二氧化碳的反应。当表面含氧基团浓度达一定值时,同种氧化剂进一步氧化不会明显增加含氧量,但改用更强的氧化剂时,表面含氧量会增大到另一新的平衡值。ACF表面存在一系列电极电位不同的氧化还原反应中心,在不同氧化还原体系中,ACF表面参与反应的基因种类
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