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为了跟踪国际光刻设备的发展，介绍了工作波长为193nm国际主流光刻机的发展现状，对光刻机的核心一投影物镜的设计原理进行了分析，针对投影物镜光学系统参数、光学结构、光学材料和机械结构进行了深入探讨，最后对中国光刻机的发展前景进行展望。
193nm光刻投影物镜的研究
【摘 要】
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为了跟踪国际光刻设备的发展，介绍了工作波长为193nm国际主流光刻机的发展现状，对光刻机的核心一投影物镜的设计原理进行了分析，针对投影物镜光学系统参数、光学结构、光学材料
【机 构】
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阿斯麦（天津）光刻设备有限公司上海分公司
【出 处】
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光学仪器
【发表日期】
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2010年3期
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