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采用离子束溅射方法制备了正巨磁电阻多层膜,在制备过程中采用外加磁场和退火处理.在室温条件下多层膜的巨磁电阻效应达到200%～300%,并用磁矩取向的双电流导电模型对正磁电阻的机理进行了解释.
磁性多层膜的正巨磁电阻特性
【摘 要】
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采用离子束溅射方法制备了正巨磁电阻多层膜,在制备过程中采用外加磁场和退火处理.在室温条件下多层膜的巨磁电阻效应达到200%～300%,并用磁矩取向的双电流导电模型对正磁电阻
【机 构】
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南京师范大学分析测试中心材料科学实验室,南京大学固体微结构国家重点实验室
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2003年6期
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