【摘 要】
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通过磁控溅射法在玻璃基底上制备氧化钒薄膜样品。由于沉积温度较低,薄膜样品呈非晶态且不透明。为使薄膜样品晶化,并有效抑制其过度氧化,将样品在管式真空炉中进行退火处理
【基金项目】
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天津师范大学大学生创新创业项目(201810065346)
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通过磁控溅射法在玻璃基底上制备氧化钒薄膜样品。由于沉积温度较低,薄膜样品呈非晶态且不透明。为使薄膜样品晶化,并有效抑制其过度氧化,将样品在管式真空炉中进行退火处理。本文重点研究了退火温度对薄膜结构和在可见至近红外波段光学性能的影响,退火温度的调节范围为300~550℃,退火时间固定为120 min。研究发现,随退火温度升高,薄膜样品的结晶度越好,当温度达到500℃时,薄膜样品结晶最好,薄膜基本由纯VO2相构成,且透光性能最好。随着退火温度进一步提高,薄膜中出现杂相,光学性能反而下降。
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