【摘 要】
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目前在日本市场上出售的霍尔元件有锑化铟、砷化镓、砷化铟、锗、硅等霍尔元件,以及硅霍尔集成电路,已公布的月生产计划为100万只。本文叙述离子注入法在砷化镓表面上形成薄
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目前在日本市场上出售的霍尔元件有锑化铟、砷化镓、砷化铟、锗、硅等霍尔元件,以及硅霍尔集成电路,已公布的月生产计划为100万只。本文叙述离子注入法在砷化镓表面上形成薄膜层来制作霍尔元件。这种薄膜层,比用外延法形成
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