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化学水浴法制备ZnS薄膜光学性能
化学水浴法制备ZnS薄膜光学性能
来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuanreng
【摘 要】
:
利用薄膜分析系统测量不同沉积时间制备的ZnS薄膜透射谱,通过分析薄膜透射谱,来确定ZnS薄膜光学常数和禁带宽度.实验结果表明,在线性生长阶段,薄膜的沉积速率大约为1 nm/min,
【作 者】
:
王应民
杜楠
孙云
张萌
蔡莉
李禾
程国安
徐飞
【机 构】
:
南开大学信息技术科学学院,南昌航空工业学院材料科学与工程学院,天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,南昌大学材料科学与工程学院,北京师范大学材料系
【出 处】
:
功能材料与器件学报
【发表日期】
:
2007年3期
【关键词】
:
化学水浴沉积法
ZNS薄膜
消光系数
禁带宽度
chemical bath deposition ZnS films extinction coefficie
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利用薄膜分析系统测量不同沉积时间制备的ZnS薄膜透射谱,通过分析薄膜透射谱,来确定ZnS薄膜光学常数和禁带宽度.实验结果表明,在线性生长阶段,薄膜的沉积速率大约为1 nm/min,具有很好的线性关系,沉积0.5 h的ZnS薄膜在可见光范围内光透过率为82%左右.
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