【摘 要】
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本文研究了电子辐照和退火对Al-SiO_2-Si(n)系统的影响.结果表明,经电子辐照加适当退火处理的样品与未经辐照的样品相比,体内非平衡少数载流子复合寿命明显降低,但表层产生寿
【机 构】
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复旦大学物理系,复旦大学物理系,复旦大学物理系,上海整流器厂研究室
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本文研究了电子辐照和退火对Al-SiO_2-Si(n)系统的影响.结果表明,经电子辐照加适当退火处理的样品与未经辐照的样品相比,体内非平衡少数载流子复合寿命明显降低,但表层产生寿命却有所增加,而且平带电压、界面态密度和表面产生速度都略有降低.
In this paper, the effects of electron irradiation and annealing on the Al-SiO_2-Si (n) system were studied. The results show that compared with the non-irradiated samples, the non-equilibrium minority carrier current Sub-composite life significantly reduced, but the surface life has increased, and the flat belt voltage, the interface state density and surface production rate decreased slightly.
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