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采用射频磁控溅射法制成含钇的二氧化锆薄膜,借助背散射分析(RBS)、透射电子显微镜(TEM)和X光衍射(XRD)方法研究了薄膜的化学剂量比、微观结构和相结构。同时研究了微观结构与机械性能(显微硬度、韧性、抗磨损性)之间的关系,以及退火对相稳定性的影响。
射频溅射Y—ZrO2薄膜的研究
【摘 要】
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采用射频磁控溅射法制成含钇的二氧化锆薄膜,借助背散射分析(RBS)、透射电子显微镜(TEM)和X光衍射(XRD)方法研究了薄膜的化学剂量比、微观结构和相结构。同时研究了微观结构
【机 构】
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清华大学材料科学与工程系,清华大学材料科学与工程系北京100084,北京100084
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1993年6期
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