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纳米压印技术是一种低成本、高产出、同时具有广阔应用前景的纳米图案制备技术。纳米压印技术按照固化方式的不同可以分为热压纳米压印技术和紫外光固化纳米压印技术。由于热固化纳米压印技术在制备图案的过程中使用了高温和高压,模板和压印胶的热膨胀系数不同,易造成图形的失真。紫外光固化纳米压印技术是在室温和低压下利用透明模板进行图案转移,可以在大面积衬底上制备分辨率高的结构。因此紫外光固化纳米压印技术的应用更为广泛。本论文利用硬质的紫外光固化胶／柔性聚二甲基硅氧烷双层体系形成可控褶皱。在单向预拉伸的聚二甲基硅氧烷表面,紫外光固化胶曝光固化形成硬质薄膜层,应力释放后,形成与拉伸方向垂直的正弦褶皱结构。通过对褶皱的形貌进行分析,可以得出硬质层厚度越薄,衬底预拉伸比越大,形成的褶皱周期越小。同时紫外光固化胶硬质薄膜层具有较高的弹性模量,当衬底应力释放时由于双层体系模量失配,硬质薄膜层易形成裂纹。实验得出裂纹产生与硬质层厚度和衬底拉伸比有关,硬质层厚度越厚、拉伸比越大越容易产生裂纹。采用双层胶纳米压印技术,结合反应离子刻蚀、电子束蒸发镀膜等工艺,实现图形从硬质硅衬底到柔性聚二甲基硅氧烷表面的转移,在高分子弹性衬底上得到周期可调的金属光栅结构。以聚乙烯醇为牺牲层,调节刻蚀参数,制备了聚乙烯醇图案,真空蒸镀金属钛后,覆盖聚二甲基硅氧烷形成聚二甲基硅氧烷／金属钛／聚乙烯醇的三明治结构,水浴溶解聚乙烯醇后,金属线条被转移至聚二甲基硅氧烷弹性衬底上,形成周期可调的金属光栅结构。光学测试表明,通过调节聚二甲基硅氧烷衬底的拉伸比在0-20%之间,可以有效地调制金属光栅的周期。基于前述的转移硬质薄膜层的方法,进一步在硬质的紫外光固化胶层上制备出纳米结构。通过控制转移时衬底拉伸与否得到不同的表面形貌。纳米结构制备前,预先拉伸衬底,制备完成后释放,可以得到纳米结构和褶皱相互嵌套的结构。纳米结构制备前未拉伸衬底,制备完成后拉伸弹性聚二甲基硅氧烷衬底,可以改变衬底上硬质薄膜层纳米结构的形貌。硬质薄膜层含有硅元素,可对硬质薄膜层进行表面氧化处理,然后用氟代氯硅烷进行低表面能防粘处理,形成可控变周期的复合软压模板。在不同拉伸比下将发生形变的硬质薄膜层纳米光栅结构进行压印,得到不同周期的光栅压印图案。从而实现单一周期模板向可控变周期模板的转变。