【摘 要】
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该文工作以高频等离子体化学气相淀积(RFCVD)方法合成超细SiN粒子的工艺研究为基础,将化学工程学、流体力学、数值计算等学科的基本原理与研究方法以及气溶胶动力学,应用到RF
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该文工作以高频等离子体化学气相淀积(RFCVD)方法合成超细Si<,3>N<,4>粒子的工艺研究为基础,将化学工程学、流体力学、数值计算等学科的基本原理与研究方法以及气溶胶动力学,应用到RFCVD技术合成超细粒子研究之中,侧重研究RFCVD反应器中的流动与传递规律和反应器中超细粒子合成过程,为最终实现RFCVD方法制备Si<,3>N<,4>超细粒子及其它多种超细粒子的产业化打下基础.
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