【摘 要】
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本文系统研究了TiO2薄膜的光学性能和激光损伤阈值(LIDT)的工艺变化规律，分析了薄膜的结构、光学性能和LIDT的内在联系，并对Ti基功能薄膜的研究进行了初步的探索。
首先研
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本文系统研究了TiO2薄膜的光学性能和激光损伤阈值(LIDT)的工艺变化规律，分析了薄膜的结构、光学性能和LIDT的内在联系，并对Ti基功能薄膜的研究进行了初步的探索。
首先研究了TiO2薄膜光学常数的工艺变化规律，为设计和制备TiO2多层光学薄膜提供了参考数据。认为结构、堆积密度、化学成份是影响薄膜光学性能的主要原因。并进一步研究了影响折射率的结构因素，为探索工艺制备高折射率TiO2薄膜提供基础。
其次研究了TiO2/SiO21064nm高反膜LIDT的工艺变化规律，为稳定工艺制备高LIDT激光薄膜提供了参考。并研究了1064nm，12ns激光引起的薄膜材料相变，完善了激光损伤理论。对比研究了电子束蒸发和Sol-gel制备的TiO2薄膜的激光损伤特点，讨论了影响薄膜LIDT的材料因素。
然后研究了TiO2单层膜和TiO2/SiO2高反膜从532nm-800nm-1064nm激光波长和50fs-220ps-12ns激光脉宽的损伤特点和LIDT变化规律，为实际TiO2激光薄膜的使用提供了参考数据，并综合比较了不同激光波长和脉宽作用下薄膜的损伤机制。
最后研究了TiOx薄膜的光电性能，认为薄膜中的氧含量影响薄膜内的自由电子浓度，从而影响薄膜的吸收、颜色和电阻。还研究了TiO2/SiO2高反膜的高温稳定性，认为薄膜的结晶，是其在高温下稳定使用的制约因素。
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