【摘 要】
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该文设计并制造了薄膜内耗仪的机械装置,阐述了设计中应注意的问题.研究了真空等因素对试样共振频率和内耗测量的影响.探索了测量薄膜剪切模量的新方法.在此基础上,研究用等
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该文设计并制造了薄膜内耗仪的机械装置,阐述了设计中应注意的问题.研究了真空等因素对试样共振频率和内耗测量的影响.探索了测量薄膜剪切模量的新方法.在此基础上,研究用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和反应磁控溅射制备的nc-TiN/a-Si<,3>N<,4>超硬薄膜的弹性模量和内耗.此外,采用反应磁控溅射初步进行了制备Al-Si-N硬质薄膜的探索,观察到当氮分压占工作气压的10﹪,制备Al-Si-N薄膜的硬度取得最大值.
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